电阻转变型存储器及其制造方法
文献类型:专利
作者 | 刘明![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
专利号 | CN200810238945.1 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明提供一种非易失性电阻转变型存储器,其中在电阻转变存储层与 电极之间设置有缓冲层,从而能够增加存储器的总电阻,进而减小存储器的 工作电流,而且缓冲层还可改善界面处的势垒高度,从而降低存储器的工作 电压,进而降低存储器的功耗。本发明提供的具有缓冲层结构的电阻转变型 存储器制造工艺简单、制作成本低并且与传统CMOS工艺兼容。相应地,本 发明还提供一种制造非易失性电阻转变型存储器的方法。 |
公开日期 | 2009-05-06 |
申请日期 | 2008-12-05 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/7834] ![]() |
专题 | 微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年) |
通讯作者 | 王艳 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘明,李颖弢,龙世兵,等. 电阻转变型存储器及其制造方法. CN200810238945.1. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。