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电阻转变型存储器及其制造方法

文献类型:专利

作者刘明; 李颖弢; 龙世兵; 王琴; 王艳; 刘琦; 张森; 左青云
专利号CN200810238945.1
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明提供一种非易失性电阻转变型存储器,其中在电阻转变存储层与 电极之间设置有缓冲层,从而能够增加存储器的总电阻,进而减小存储器的 工作电流,而且缓冲层还可改善界面处的势垒高度,从而降低存储器的工作 电压,进而降低存储器的功耗。本发明提供的具有缓冲层结构的电阻转变型 存储器制造工艺简单、制作成本低并且与传统CMOS工艺兼容。相应地,本 发明还提供一种制造非易失性电阻转变型存储器的方法。

公开日期2009-05-06
申请日期2008-12-05
语种中文
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/7834]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
通讯作者王艳
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
刘明,李颖弢,龙世兵,等. 电阻转变型存储器及其制造方法. CN200810238945.1.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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