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干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构

文献类型:专利

作者韩阶平; 马俊如; 罗澎; 金钟元
发表日期1990-12-19
专利号CN2080233
著作权人中国科学院微电子研究所
文献子类发明
英文摘要本实用新型涉及干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构。本实用新型提供一种磁控反应离刻蚀机上施加磁场的永磁磁路结构,该永磁磁路结构设于反应室内直接构成磁场,由一对包括许多永磁磁铁单元的极板,一个软铁回路以及角铁组成。通过调整可使硅片刻蚀区形成均匀的强度可调的磁场。本实用新型磁路结构简单,可降低设备制造成本,提高精度,提高设备可靠性和易操作性。
公开日期1991-07-03 ; 2010-11-26
语种中文
状态公开
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/8218]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
推荐引用方式
GB/T 7714
韩阶平,马俊如,罗澎,等. 干法工艺用的大面积均匀可调永磁磁路结构. CN2080233. 1990-12-19.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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