消除深亚微米工艺中连线耦合电容造成的信号串扰的方法
文献类型：专利
| 作者 | 蒋见花; 陈守顺; 杨旭; 黄令仪 |
| 发表日期 | 2002-09-20 |
| 专利号 | CN1484294 |
| 著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
| 文献子类 | 发明 |
| 英文摘要 | 本发明一种消除深亚微米工艺中连线耦合电容造成的信号串扰的方法，包括如下步骤：详细布线：为制作超大规模集成电路的制作工艺作准备；寄生参数提取：分析耦合电容对芯片的影响；标准延迟文件产生：为了产生不含信号上升或下降的最小源电阻和最大源电阻的时间窗口文件；耦合电容串扰检查并产生修复文件；修复方式选择：根据修复文件中的数量，确定用手工修复还是返回到全局布线中修复；修复：在全局布线中，对受耦合电容串扰的连线进行修复；输出掩模板的数据格式,进行加工工艺。 |
| 公开日期 | 2004-03-24 ; 2010-11-26 |
| 语种 | 中文 |
| 状态 | 公开 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/8260]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 蒋见花,陈守顺,杨旭,等. 消除深亚微米工艺中连线耦合电容造成的信号串扰的方法. CN1484294. 2002-09-20. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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