Analysis by using X-ray photoelectron spectroscopy for polymethyl methacrylate and polytetrafluoroethylene etched by KrF excimer laser
文献类型：外文期刊
| 作者 | Zhu, XL; Liu, SB; Man, BY; Xie, CQ; Chen, DP; Wang, DQ; Ye, TC; Liu, M |
| 发表日期 | 2007 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/8592]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhu, XL,Liu, SB,Man, BY,et al. Analysis by using X-ray photoelectron spectroscopy for polymethyl methacrylate and polytetrafluoroethylene etched by KrF excimer laser. 2007. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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