Charge storage characteristics of metal-induced nanocrystalline in erbium-doped amorphous silicon films
文献类型：外文期刊
| 作者 | Li, ZG; Guan, WH; Liu, M; Long, SB; Jia, R; Lv, J; Shi, Y; Zhao, XW |
| 发表日期 | 2008 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/8610]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Li, ZG,Guan, WH,Liu, M,et al. Charge storage characteristics of metal-induced nanocrystalline in erbium-doped amorphous silicon films. 2008. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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