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Simulation and comparison of MOS inversion layer quantum mechanics effects in SiGePMOSFET and SiPMOSFET

文献类型:外文期刊

作者Yang, R; Luo, JS; Tu, J; Zhang, RZ
发表日期2004
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/8748]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
推荐引用方式
GB/T 7714
Yang, R,Luo, JS,Tu, J,et al. Simulation and comparison of MOS inversion layer quantum mechanics effects in SiGePMOSFET and SiPMOSFET. 2004.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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