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The investigation of key technologies for sub-0.1-mu m CMOS device fabrication

文献类型：外文期刊

作者Xu, QX; Qian, H; Yin, HX; Jia, L; Ji, HH; Chen, BQ; Zhu, YJ; Liu, M; Han, ZS; Hu, HZ
发表日期2001
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/8768]  
专题微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年）
推荐引用方式
GB/T 7714		 Xu, QX,Qian, H,Yin, HX,et al. The investigation of key technologies for sub-0.1-mu m CMOS device fabrication. 2001.

入库方式： OAI收割

来源：微电子研究所

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