Very low-pressure VLP-CVD growth of high quality gamma-Al2O3 films on silicon by multi-step process
文献类型：外文期刊
| 作者 | Tan, LW; Zan, YD; Wang, J; Wang, QY; Yu, YH; Wang, SR; Liu, ZL; Lin, LY |
| 发表日期 | 2002 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/8788]  |
| 专题 | 微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Tan, LW,Zan, YD,Wang, J,et al. Very low-pressure VLP-CVD growth of high quality gamma-Al2O3 films on silicon by multi-step process. 2002. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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