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带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作

文献类型:期刊论文

作者吴璇; 李海亮; 朱效立; 叶甜春; 陈宝钦; 刘明; 马杰; 曹磊峰; 谢常青
刊名光电工程
出版日期2009
卷号36期号:10页码:5,30-34
关键词大高宽比 X射线波带片 X射线光刻 衍射效率
ISSN号1003-501X
其他题名Fabrication of High Aspect-ratio Hard X-Ray Zone Plates with Supporting Structures
英文摘要

对利用X射线光刻制作大高宽比硬x射线波带片的设计和制作工艺进行了研究。采用电子束光刻制作X射线光刻掩模,并利用X射线光刻制作最终的硬x射线波带片。采用对光刻胶结构加入支撑点的方法,大大提高了X射线光刻制作硬x射线波带片的高宽比。对所加入支撑点的布置策略进行了优化,使得支撑点所占的面积比例减小。所制作的波带片最外环宽度为200nm,厚度为2.8μm,具有优良的结构质量,预期可用于10keV到25keV波段,并具有优于250nm的成像分辨率。[著者文摘]

语种中文
公开日期2010-06-01
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/2172]  
专题微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
吴璇,李海亮,朱效立,等. 带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作[J]. 光电工程,2009,36(10):5,30-34.
APA 吴璇.,李海亮.,朱效立.,叶甜春.,陈宝钦.,...&谢常青.(2009).带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作.光电工程,36(10),5,30-34.
MLA 吴璇,et al."带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作".光电工程 36.10(2009):5,30-34.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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