带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作
文献类型:期刊论文
作者 | 吴璇![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
刊名 | 光电工程
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出版日期 | 2009 |
卷号 | 36期号:10页码:5,30-34 |
关键词 | 大高宽比 X射线波带片 X射线光刻 衍射效率 |
ISSN号 | 1003-501X |
其他题名 | Fabrication of High Aspect-ratio Hard X-Ray Zone Plates with Supporting Structures |
英文摘要 | 对利用X射线光刻制作大高宽比硬x射线波带片的设计和制作工艺进行了研究。采用电子束光刻制作X射线光刻掩模,并利用X射线光刻制作最终的硬x射线波带片。采用对光刻胶结构加入支撑点的方法,大大提高了X射线光刻制作硬x射线波带片的高宽比。对所加入支撑点的布置策略进行了优化,使得支撑点所占的面积比例减小。所制作的波带片最外环宽度为200nm,厚度为2.8μm,具有优良的结构质量,预期可用于10keV到25keV波段,并具有优于250nm的成像分辨率。[著者文摘] |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-06-01 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/2172] ![]() |
专题 | 微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴璇,李海亮,朱效立,等. 带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作[J]. 光电工程,2009,36(10):5,30-34. |
APA | 吴璇.,李海亮.,朱效立.,叶甜春.,陈宝钦.,...&谢常青.(2009).带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作.光电工程,36(10),5,30-34. |
MLA | 吴璇,et al."带支撑结构的大高宽比硬X射线波带片制作".光电工程 36.10(2009):5,30-34. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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