应用于纳米制造的新型电子束抗蚀剂Calixarene的工艺研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 谢常青 ; 安南; 刘明; 陈宝钦; 任黎明; 赵珉; 朱效立
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| 刊名 | 纳米技术与精密工程
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| 出版日期 | 2009 |
| 卷号 | 7期号:3页码:4，275-278 |
| 关键词 | 纳米制造 电子束光刻 工艺技术 电子束抗蚀剂 Calixarene |
| ISSN号 | 1672-6030 |
| 其他题名 | Process Research of Novel Electron Beam Lithography Resist Calixarene Used in Nanofabrication |
| 英文摘要 | 为了满足电子束光刻（EBL）对高分辨率、性能优秀抗蚀剂的需求,研究了将Calixarene衍生物作为电子束抗蚀剂在胶液配制、电子束曝光及显影等工艺过程中的相关技术.其中电子束曝光实验在JEOL JBX-5000LS系统上进行.实验结果表明,在入射电子能量50 keV、束流50 pA的条件下,Calixarene可以方便地形成50 nm的单线、50nm等线宽与间距的图形结构.通过与常用电子束抗蚀剂的对比,总结了Calixarene在电子束光刻性能上的优缺点,并分析了其成因.作为一种新型的高分辨率电子束光刻抗蚀剂,Calixarene有望应用在纳米结构制造、纳米尺寸器件及电路的研制等领域.[著者文摘] |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-06-01 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/2176]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谢常青,安南,刘明,等. 应用于纳米制造的新型电子束抗蚀剂Calixarene的工艺研究[J]. 纳米技术与精密工程,2009,7(3):4，275-278. |
| APA | 谢常青.,安南.,刘明.,陈宝钦.,任黎明.,...&朱效立.(2009).应用于纳米制造的新型电子束抗蚀剂Calixarene的工艺研究.纳米技术与精密工程,7(3),4，275-278. |
| MLA | 谢常青,et al."应用于纳米制造的新型电子束抗蚀剂Calixarene的工艺研究".纳米技术与精密工程 7.3(2009):4，275-278. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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