自聚焦变栅距光栅设计、制作及特性研究
文献类型:期刊论文
作者 | 朱效立![]() ![]() ![]() |
刊名 | 光电工程
![]() |
出版日期 | 2009 |
卷号 | 36期号:11页码:5,48-52 |
关键词 | 衍射光学 变栅距光栅 自聚焦特性 |
ISSN号 | 1003-501X |
其他题名 | Accurate complicated path delay control method |
英文摘要 | 利用变栅距光栅的衍射光束自聚焦特性,设计和制作了变栅距透射光栅,并对其自聚焦特性进行了研究。采用变栅距光栅的自动生成宏文件程序,优化设计了变栅距光栅的栅距变化。采用光栅扫描电子束光刻的方法制作了中心线数为300 l/mm、适用于355 nm波长的自聚焦变栅距变狭缝光栅。使用三倍频Nd:YAG激光器,研究了制作的变栅距光栅的聚焦特性,并与对氦氖激光的聚焦特性进行了比较。结果表明,主动式设计的变栅距变狭缝自聚焦光栅可以大幅提高衍射光强度和分辨本领,具有重要的应用价值。[著者文摘] |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-06-01 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/2178] ![]() |
专题 | 微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱效立,靳飞飞,刘明,等. 自聚焦变栅距光栅设计、制作及特性研究[J]. 光电工程,2009,36(11):5,48-52. |
APA | 朱效立,靳飞飞,刘明,谢常青,&刘世炳.(2009).自聚焦变栅距光栅设计、制作及特性研究.光电工程,36(11),5,48-52. |
MLA | 朱效立,et al."自聚焦变栅距光栅设计、制作及特性研究".光电工程 36.11(2009):5,48-52. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。