High-rate reactive ion etching of barium hexaferrite films using optimal CHF3/SF6 gas mixtures
文献类型：外文期刊
| 作者 | Yang, QH; Vittoria, C; Harris, VG; Yang, A; Xie, CQ; Chen, ZH |
| 发表日期 | 2009 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/8876]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Yang, QH,Vittoria, C,Harris, VG,et al. High-rate reactive ion etching of barium hexaferrite films using optimal CHF3/SF6 gas mixtures. 2009. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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