高温氧气退火对MANOS型存储器件阻挡层及界面层的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 许中广,朱晨昕,霍宗亮 |
| 刊名 | J. Phys. D: Appl. Phys.
 |
| 出版日期 | 2012-04-18 |
| 公开日期 | 2015-09-22 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/13520]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 许中广,朱晨昕,霍宗亮. 高温氧气退火对MANOS型存储器件阻挡层及界面层的影响[J]. J. Phys. D: Appl. Phys.,2012. |
| APA | 许中广,朱晨昕,霍宗亮.(2012).高温氧气退火对MANOS型存储器件阻挡层及界面层的影响.J. Phys. D: Appl. Phys.. |
| MLA | 许中广,朱晨昕,霍宗亮."高温氧气退火对MANOS型存储器件阻挡层及界面层的影响".J. Phys. D: Appl. Phys. (2012). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。