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一种闪存存储器及其制作方法

文献类型:专利

作者王永; 刘明; 王晨杰; 张满红; 刘璟; 谢常青; 霍宗亮
发表日期2015-08-26
专利号CN201110410003.9
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明提供一种闪存存储器,存储器的电荷存储层被隔离介质区划分为两个电荷存储区,所述隔离介质区的电导率小于所述两个电荷存储区的电导率,两个电荷存储区的材料不同。相应地,本发明还提供一种闪存存储器的制作方法。本发明的闪存存储器的电荷存储层采用电导率较小的隔离介质区将两个电荷存储区隔离开,能够抑制两个电荷存储区之间的存储电荷串扰,保证了存储器的存储可靠性。另外两个电荷存储区中一个采用金属氮化物纳米晶材料,另一个采用介电常数较高的非纳米晶半导体材料,能够避免编程时源端注入现象对存储器存储可靠性的影响。

公开日期2013-06-19
申请日期2011-12-09
语种中文
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/14775]  
专题微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王永,刘明,王晨杰,等. 一种闪存存储器及其制作方法. CN201110410003.9. 2015-08-26.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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