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复合光子筛投影式光刻系统

文献类型:专利

作者谢常青; 高南; 华一磊; 朱效立; 李海亮; 史丽娜; 李冬梅; 刘明
发表日期2013-03-06
专利号CN201110234020.1
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明涉及微纳加工技术领域,公开了一种复合光子筛投影式光刻系统,该系统包括依次放置的照明系统、掩模板、复合光子筛和衬底,其中:照明系统,用于产生入射光,并将该入射光照射至掩模板;掩模板,用于提供复合光子筛成像的物方,入射光透过掩模板后被照射至复合光子筛;复合光子筛,用于实现成像功能,将掩模板上的图形在衬底上成像;衬底,用于接收复合光子筛对掩模板上图形所成的像。利用本发明,由于采用复合光子筛代替传统投影式光刻系统中的投影物镜,不仅能够保留传统投影式光刻系统效率高的优点,实现快速的大批量光刻,提高光刻效率,而且可以有效地降低成本,减小系统体积。

公开日期2011-12-21
申请日期2011-08-16
语种中文
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/14817]  
专题微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
谢常青,高南,华一磊,等. 复合光子筛投影式光刻系统. CN201110234020.1. 2013-03-06.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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