复合光子筛投影式光刻系统
文献类型:专利
作者 | 谢常青![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2013-03-06 |
专利号 | CN201110234020.1 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明涉及微纳加工技术领域,公开了一种复合光子筛投影式光刻系统,该系统包括依次放置的照明系统、掩模板、复合光子筛和衬底,其中:照明系统,用于产生入射光,并将该入射光照射至掩模板;掩模板,用于提供复合光子筛成像的物方,入射光透过掩模板后被照射至复合光子筛;复合光子筛,用于实现成像功能,将掩模板上的图形在衬底上成像;衬底,用于接收复合光子筛对掩模板上图形所成的像。利用本发明,由于采用复合光子筛代替传统投影式光刻系统中的投影物镜,不仅能够保留传统投影式光刻系统效率高的优点,实现快速的大批量光刻,提高光刻效率,而且可以有效地降低成本,减小系统体积。 |
公开日期 | 2011-12-21 |
申请日期 | 2011-08-16 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/14817] ![]() |
专题 | 微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 谢常青,高南,华一磊,等. 复合光子筛投影式光刻系统. CN201110234020.1. 2013-03-06. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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