High Q Plasmonic Lasing of Band Edge Modes in an Asymmetry Environment
文献类型：期刊论文
| 作者 | Li HL(李海亮) ; Shi LN(史丽娜); Xie CQ(谢常青); Hua YL(华一磊); Niu JB(牛洁斌)
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| 刊名 | Plasmonics
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| 出版日期 | 2015-06-07 |
| 语种 | 英语 |
| 公开日期 | 2016-05-24 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/14857]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Li HL,Shi LN,Xie CQ,et al. High Q Plasmonic Lasing of Band Edge Modes in an Asymmetry Environment[J]. Plasmonics,2015. |
| APA | Li HL,Shi LN,Xie CQ,Hua YL,&Niu JB.(2015).High Q Plasmonic Lasing of Band Edge Modes in an Asymmetry Environment.Plasmonics. |
| MLA | Li HL,et al."High Q Plasmonic Lasing of Band Edge Modes in an Asymmetry Environment".Plasmonics (2015). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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