阻变存储器及其制造方法
文献类型:专利
作者 | 余兆安![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2015-03-04 |
专利号 | CN201110075379.9 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明实施例公开了一种阻变存储器及其制造方法,所述存储器包括:选通晶体管;下电极,所述下电极同选通晶体管电连接;下电极之上凸起的纳米电极;下电极和纳米电极之上的存储介质层;存储介质层之上的上电极。通过凸起的纳米电极增强存储介质层内纳米电极附件的局部电场强度,从而使导电细丝能够沿着该纳米电极形成,这样有效控制了导电细丝形成数量以及导电细丝形成和断开的路径,从而解决了导电细丝随机形成的问题,使器件的编程电压具有集中性,提高了器件工作的稳定性。 |
公开日期 | 2012-10-03 |
申请日期 | 2011-03-28 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/15857] ![]() |
专题 | 微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 余兆安,王明,张满红,等. 阻变存储器及其制造方法. CN201110075379.9. 2015-03-04. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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