Fabrication of ultra-high aspect ratio (>160:1) silicon nanostructures by using Au metal assisted chemical etching
文献类型：期刊论文
| 作者 | Shi LN(史丽娜) ; Xie CQ(谢常青); Li HL(李海亮); Ye TC(叶甜春)
|
| 刊名 | J. Micromech. Microeng
 |
| 出版日期 | 2017-11-16 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/18135]  |
| 专题 | 微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Shi LN,Xie CQ,Li HL,et al. Fabrication of ultra-high aspect ratio (>160:1) silicon nanostructures by using Au metal assisted chemical etching[J]. J. Micromech. Microeng,2017. |
| APA | Shi LN,Xie CQ,Li HL,&Ye TC.(2017).Fabrication of ultra-high aspect ratio (>160:1) silicon nanostructures by using Au metal assisted chemical etching.J. Micromech. Microeng. |
| MLA | Shi LN,et al."Fabrication of ultra-high aspect ratio (>160:1) silicon nanostructures by using Au metal assisted chemical etching".J. Micromech. Microeng (2017). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。