Radiation Effects on 1 Mb HfO2-based Resistive Memory
文献类型:期刊论文
| 作者 | Bi JS(毕津顺) ; Zhang F(张锋) ; Duan Y(段远); Xi K(习凯) ; Li B(李博) ; Liu M(刘明)
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| 刊名 | RADECS 2017
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| 出版日期 | 2017-10-06 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/18188] ![]() |
| 专题 | 微电子研究所_微电子器件与集成技术重点实验室 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Bi JS,Zhang F,Duan Y,et al. Radiation Effects on 1 Mb HfO2-based Resistive Memory[J]. RADECS 2017,2017. |
| APA | Bi JS,Zhang F,Duan Y,Xi K,Li B,&Liu M.(2017).Radiation Effects on 1 Mb HfO2-based Resistive Memory.RADECS 2017. |
| MLA | Bi JS,et al."Radiation Effects on 1 Mb HfO2-based Resistive Memory".RADECS 2017 (2017). |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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