Effect of radio frequency power on the inductively coupled plasma etched Al0.65Ga0.35N surface
文献类型：外文期刊
| 作者 | Liu, XY; Bai, Y; Liu, J; Ma, P; Li, B; Zhu, J; Guo, LW |
| 发表日期 | 2010 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/8950]  |
| 专题 | 微电子研究所_高频高压器件与集成研发中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Liu, XY,Bai, Y,Liu, J,et al. Effect of radio frequency power on the inductively coupled plasma etched Al0.65Ga0.35N surface. 2010. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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