一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法
文献类型：专利
| 作者 | 王显泰 ; 钟英辉; 金智; 汪宁
|
| 发表日期 | 2012-06-20 |
| 专利号 | CN102509704A |
| 著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
| 国家 | 中国 |
| 文献子类 | 发明专利 |
| 英文摘要 | 本发明涉及半导体器件工艺领域，提出一种T型栅制作的工艺方法：采用具有良好稳定度的4层结构的叠层胶，只需一次电子束写入栅脚图形，配合所本发明的多次分层显影的方法，可以获得T型栅所需的空间图形，以制备T型栅，该方法有效的减小了电子束写入面积，相应减小了机时占用。 |
| 公开日期 | 2012-06-20 |
| 申请日期 | 2011-12-26 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/9907]  |
| 专题 | 微电子研究所_高频高压器件与集成研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王显泰,钟英辉,金智,等. 一种采用单次电子束曝光制备T型栅的方法. CN102509704A. 2012-06-20. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。