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IMPACTS OF ANNEALING PROCESSES ON THE ELECTRICAL PROPERTIES OF GASB METAL-OXIDE-SEMICONDUCTOR DEVICES

文献类型:期刊论文

作者Zhou JH(周佳辉); Liu HG(刘洪刚); Wang SK(王盛凯); Yang X(杨旭); Zhao W(赵威); Chang HD(常虎东); Sun B(孙兵); Ceng ZH(曾振华)
刊名Proceedings of ICSICT2014
出版日期2014-10-28
公开日期2015-04-16
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/12552]  
专题微电子研究所_高频高压器件与集成研发中心
通讯作者Liu HG(刘洪刚)
推荐引用方式
GB/T 7714
Zhou JH,Liu HG,Wang SK,et al. IMPACTS OF ANNEALING PROCESSES ON THE ELECTRICAL PROPERTIES OF GASB METAL-OXIDE-SEMICONDUCTOR DEVICES[J]. Proceedings of ICSICT2014,2014.
APA 周佳辉.,刘洪刚.,王盛凯.,杨旭.,赵威.,...&曾振华.(2014).IMPACTS OF ANNEALING PROCESSES ON THE ELECTRICAL PROPERTIES OF GASB METAL-OXIDE-SEMICONDUCTOR DEVICES.Proceedings of ICSICT2014.
MLA 周佳辉,et al."IMPACTS OF ANNEALING PROCESSES ON THE ELECTRICAL PROPERTIES OF GASB METAL-OXIDE-SEMICONDUCTOR DEVICES".Proceedings of ICSICT2014 (2014).

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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