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一种自对准石墨烯场效应晶体管及其制备方法

文献类型:专利

作者张大勇; 彭松昂; 金智; 陈娇; 史敬元; 麻芃
发表日期2013-09-18
专利号CN103311276A
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

 本发明公开了一种自对准石墨烯场效应晶体管及其制备方法,该自对准石墨烯场效应晶体管包括半导体衬底、绝缘层、导电通道、源电极、漏电极、栅介质层、栅金属和自对准金属,其中,绝缘层形成于半导体衬底上,导电沟道形成于绝缘体上,导电沟道由石墨烯构成,源电极和漏电极分别形成于导电通道的两侧,栅介质层选择性沉积在源电极和漏电极之间的导电沟道上,栅金属形成于栅介质层之上,栅介质层与栅金属同时图形化堆砌在一起形成栅堆积层,对沟道区载流子浓度进行调控;自对准金属层覆盖源电极、漏电极、导电通道以及栅金属之上,减小未被栅条覆盖区域面积,实现器件栅与源漏的自对准。

申请日期2013-06-07
语种中文
源URL[http://159.226.55.106/handle/172511/16430]  
专题微电子研究所_高频高压器件与集成研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
张大勇,彭松昂,金智,等. 一种自对准石墨烯场效应晶体管及其制备方法. CN103311276A. 2013-09-18.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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