一种石墨烯场效应晶体管及其制造方法
文献类型:专利
作者 | 彭松昂![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2018-11-09 |
专利号 | CN201610306272.3 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 一种石墨烯场效应晶体管及其制造方法,该方法包括:提供绝缘衬底;在衬底上形成石墨烯导电层;在石墨烯导电层上沉积栅介质;图形化得到栅电极;形成栅极侧壁;以含有侧壁的栅极为掩膜,对栅介质层进行腐蚀;制作源漏自对准电极,其中栅极侧墙作为隔离,避免栅源、栅漏电极短路;最后,腐蚀掉栅极侧壁,得到空气隙自对准石墨烯晶体管。本发明方法制备工艺简单,易于与集成电路制造工艺兼容,同时由于实现了栅与源漏电极的自对准,从而大大缩短了器件通路区,减小了寄生电阻;通过侧壁腐蚀,形成空气隙,减小了栅源、栅漏之间的寄生电容,提高了石墨烯射频场效应晶体管性能。 |
公开日期 | 2016-07-20 |
申请日期 | 2016-05-10 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/18684] ![]() |
专题 | 微电子研究所_高频高压器件与集成研发中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 彭松昂,金智,王少青,等. 一种石墨烯场效应晶体管及其制造方法. CN201610306272.3. 2018-11-09. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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