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一种砷化镓表面形貌控制方法

文献类型:专利

作者孙兵; 刘洪刚; 王盛凯
发表日期2018-12-25
专利号CN201611251389.2
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明公开了一种砷化镓表面形貌控制方法,包括如下步骤:步骤1:将待刻蚀表面形貌的砷化镓样品置于真空室中,然后向真空室内充入氧分压气体;步骤2:调节氧分压,根据氧分压将真空室升温至对应温度,使砷化镓与氧分子在高温低压工作区域结合生成气态的三氧化二砷与一氧化二镓,控制反应时间实现砷化镓表面的形貌控制。本发明所提供的砷化镓(GaAs)表面形貌控制技术,工艺非常简单,且更加环保、成本低廉。

公开日期2017-05-10
申请日期2016-12-29
语种中文
源URL[http://159.226.55.107/handle/172511/18686]  
专题微电子研究所_高频高压器件与集成研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
孙兵,刘洪刚,王盛凯. 一种砷化镓表面形貌控制方法. CN201611251389.2. 2018-12-25.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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