基于精简标准单元库的OPC复用技术
文献类型:期刊论文
作者 | 杨清华![]() ![]() ![]() ![]() |
刊名 | 半导体学报
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出版日期 | 2008 |
卷号 | 29期号:5页码:6,1016-1021 |
关键词 | 精简标准单元库 Opc复用 可制造性设计 电气仿真 |
ISSN号 | 0253-4177 |
英文摘要 | 提出了一种对标准单元的光学邻近效应校正结果进行复用的方法,并通过将传统标准单元中的所有核心逻辑通过反相器和二选一多路选择器的组合来实现,得到了一套可制造性强的精简标准单元库,从而使OPC复用技术得以有效实施,并将在很大程度上提高芯片生产效率和降低掩模数据存储量.精简标准单元库中单元的电气仿真结果表明其在面积、速度、功耗方面与传统标准单元库相比性能损失很小。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-05-27 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/1906] ![]() |
专题 | 微电子研究所_EDA中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 杨清华,焦海龙,陈岚,等. 基于精简标准单元库的OPC复用技术[J]. 半导体学报,2008,29(5):6,1016-1021. |
APA | 杨清华,焦海龙,陈岚,李志刚,&叶甜春.(2008).基于精简标准单元库的OPC复用技术.半导体学报,29(5),6,1016-1021. |
MLA | 杨清华,et al."基于精简标准单元库的OPC复用技术".半导体学报 29.5(2008):6,1016-1021. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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