65-45nm铜互连化学机械抛光智能填充技术研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 周隽雄 |
| 答辩日期 | 2011-05 |
| 文献子类 | 硕士 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院 |
| 导师 | 陈岚 |
| 学位专业 | 微电子学与固体电子学 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/17319]  |
| 专题 | 微电子研究所_EDA中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周隽雄. 65-45nm铜互连化学机械抛光智能填充技术研究[D]. 中国科学院研究生院. 2011. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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