一种抛光粒子的设计方法、抛光粒子及研磨液
文献类型:专利
作者 | 陈岚![]() ![]() |
发表日期 | 2018-02-02 |
专利号 | CN201610115165.2 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明公开了一种抛光粒子的设计方法、抛光粒子及研磨液,其中,抛光粒子包括:研磨颗粒;以及,嫁接于所述研磨颗粒上预设数量、预设聚合度和预设类型的表面活性剂分子。由上述内容可知,本发明提供的技术方案,通过在研磨颗粒上嫁接表面活性剂分子,以降低抛光粒子吸附在研磨基材表面的几率,提高研磨效果。此外,针对不同的研磨基材设计匹配的研磨颗粒,以及在该研磨颗粒上设计相匹配数量、聚合度的表面活性剂分子,通过此针对性的设计,可优化抛光粒子的性能,以及进一步提高研磨效果。 |
公开日期 | 2016-06-01 |
申请日期 | 2016-03-01 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/18633] ![]() |
专题 | 微电子研究所_EDA中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈岚,徐勤志. 一种抛光粒子的设计方法、抛光粒子及研磨液. CN201610115165.2. 2018-02-02. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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