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一种抛光粒子的设计方法、抛光粒子及研磨液

文献类型:专利

作者陈岚; 徐勤志
发表日期2018-02-02
专利号CN201610115165.2
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

 本发明公开了一种抛光粒子的设计方法、抛光粒子及研磨液,其中,抛光粒子包括:研磨颗粒;以及,嫁接于所述研磨颗粒上预设数量、预设聚合度和预设类型的表面活性剂分子。由上述内容可知,本发明提供的技术方案,通过在研磨颗粒上嫁接表面活性剂分子,以降低抛光粒子吸附在研磨基材表面的几率,提高研磨效果。此外,针对不同的研磨基材设计匹配的研磨颗粒,以及在该研磨颗粒上设计相匹配数量、聚合度的表面活性剂分子,通过此针对性的设计,可优化抛光粒子的性能,以及进一步提高研磨效果。

公开日期2016-06-01
申请日期2016-03-01
语种中文
源URL[http://159.226.55.107/handle/172511/18633]  
专题微电子研究所_EDA中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
陈岚,徐勤志. 一种抛光粒子的设计方法、抛光粒子及研磨液. CN201610115165.2. 2018-02-02.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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