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An Oxide Chemical Mechanical Planarization Model for HKMG Structures

文献类型:期刊论文

作者Sun Y(孙艳); Liu HW(刘宏伟); Chen L(陈岚); Xu QZ(徐勤志); Yang F(杨飞)
刊名ECS Journal of Solid State Science and Technology
出版日期2018-09-27
文献子类期刊论文
源URL[http://159.226.55.107/handle/172511/19041]  
专题微电子研究所_EDA中心
推荐引用方式
GB/T 7714
Sun Y,Liu HW,Chen L,et al. An Oxide Chemical Mechanical Planarization Model for HKMG Structures[J]. ECS Journal of Solid State Science and Technology,2018.
APA 孙艳,刘宏伟,陈岚,徐勤志,&杨飞.(2018).An Oxide Chemical Mechanical Planarization Model for HKMG Structures.ECS Journal of Solid State Science and Technology.
MLA 孙艳,et al."An Oxide Chemical Mechanical Planarization Model for HKMG Structures".ECS Journal of Solid State Science and Technology (2018).

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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