28nm及特色先导工艺集成电路设计产业化关键技术与应用
文献类型:成果
作者 | 王海永![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
获奖日期 | 2018 |
文献子类 | 北京市科学技术奖 |
奖励等级 | 三等奖 |
源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/19287] ![]() |
专题 | 微电子研究所_EDA中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王海永,陈岚,尹明会,等. 28nm及特色先导工艺集成电路设计产业化关键技术与应用. . 2018. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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