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28nm及特色先导工艺集成电路设计产业化关键技术与应用

文献类型:成果

作者王海永; 陈岚; 尹明会; 秦毅; 张贺; 徐勤志
获奖日期2018
文献子类北京市科学技术奖
奖励等级三等奖
源URL[http://159.226.55.107/handle/172511/19287]  
专题微电子研究所_EDA中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
王海永,陈岚,尹明会,等. 28nm及特色先导工艺集成电路设计产业化关键技术与应用. . 2018.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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