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不同添加剂浓度下硅通孔电镀仿真及实验验证

文献类型:会议论文

作者戴风伟; 宋崇申; 靖向萌
出版日期2012
会议日期2012-12-07
会议地点荷兰阿姆斯特丹
会议录Proceeding of ESTC 2012
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/11591]  
专题微电子研究所_系统封装与集成研发中心
通讯作者宋崇申
推荐引用方式
GB/T 7714
戴风伟,宋崇申,靖向萌. 不同添加剂浓度下硅通孔电镀仿真及实验验证[C]. 见:. 荷兰阿姆斯特丹. 2012-12-07.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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