Deep dry etching of fused silica using C4F8/Ar inductively coupledplasmas
文献类型：期刊论文
| 作者 | Liu FM(刘丰满); Lin LC(林来存) |
| 刊名 | J Mater Sci: Mater Electron
 |
| 出版日期 | 2016-08-11 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/16112]  |
| 专题 | 微电子研究所_系统封装与集成研发中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Liu FM,Lin LC. Deep dry etching of fused silica using C4F8/Ar inductively coupledplasmas[J]. J Mater Sci: Mater Electron,2016. |
| APA | 刘丰满,&林来存.(2016).Deep dry etching of fused silica using C4F8/Ar inductively coupledplasmas.J Mater Sci: Mater Electron. |
| MLA | 刘丰满,et al."Deep dry etching of fused silica using C4F8/Ar inductively coupledplasmas".J Mater Sci: Mater Electron (2016). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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