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一种三维光电集成结构及其制作方法

文献类型:专利

作者刘丰满; 曹立强; 郝虎
发表日期2018-05-08
专利号CN201510528257.9
著作权人中国科学院微电子研究所 ; 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明公开一种三维光电集成结构及其制作方法,所述三维光电集成结构包括:光电子芯片;再布线介质;电子器件;基板,所述再布线介质通过所述焊球固定于所述基板上;光纤,与所述光子器件耦合。通过设置多层介质层,并在多层介质层内设置互连金属线,采用了该成熟的再布线技术,工艺简单,实现输入输出接口的引出,可根据后续集成的需要,灵活的分配输入输出接口,从而实现了层间互连,且避免了采用硅通孔技术,保证了光子芯片的性能,另外,将所述光电子器件设置于所述互连介质和所述基底的同一侧,即使得所述光电子器件使用倒扣互连,不仅提高传输速率,而且提高了散热效果。

公开日期2016-02-10
申请日期2015-08-26
语种中文
源URL[http://159.226.55.107/handle/172511/18702]  
专题微电子研究所_系统封装与集成研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
刘丰满,曹立强,郝虎. 一种三维光电集成结构及其制作方法. CN201510528257.9. 2018-05-08.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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