A novel anti-shock silicon etching apparatus for solving diaphragm release problems
文献类型：外文期刊
| 作者 | Ye, TC; Xu, QX; Jing, YP; Ou, Y; Chen, DP; Shi, SL |
| 发表日期 | 2010 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/8990]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Ye, TC,Xu, QX,Jing, YP,et al. A novel anti-shock silicon etching apparatus for solving diaphragm release problems. 2010. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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