TDDB characteristic and breakdown mechanism of ultra-thin SiO2/HfO2 bilayer
文献类型：期刊论文
| 作者 | Tang ZY(唐兆云); Tao FF(陶芬芬); Yang H(杨红); Tang B(唐波); Xu J(许静); Yan J(闫江) |
| 刊名 | Journal of Semiconductors
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| 出版日期 | 2014-06-01 |
| 公开日期 | 2015-04-24 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/12728]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 通讯作者 | Tang ZY(唐兆云) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Tang ZY,Tao FF,Yang H,et al. TDDB characteristic and breakdown mechanism of ultra-thin SiO2/HfO2 bilayer[J]. Journal of Semiconductors,2014. |
| APA | 唐兆云,陶芬芬,杨红,唐波,许静,&闫江.(2014).TDDB characteristic and breakdown mechanism of ultra-thin SiO2/HfO2 bilayer.Journal of Semiconductors. |
| MLA | 唐兆云,et al."TDDB characteristic and breakdown mechanism of ultra-thin SiO2/HfO2 bilayer".Journal of Semiconductors (2014). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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