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A straightforward and CMOS-compatible nanofabrication technique of periodic SiO2 nanohole arrays
文献类型：期刊论文
| 作者 | Wei YY(韦亚一) ; Meng LK(孟令款); He XB(贺晓彬); Gao JF(高建峰); Li JJ(李俊杰); Yan J(闫江)
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| 刊名 | Nanotechnology
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| 出版日期 | 2015-09-22 |
| 公开日期 | 2016-05-31 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/15085]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Wei YY,Meng LK,He XB,et al. A straightforward and CMOS-compatible nanofabrication technique of periodic SiO2 nanohole arrays[J]. Nanotechnology,2015. |
| APA | Wei YY,Meng LK,He XB,Gao JF,Li JJ,&Yan J.(2015).A straightforward and CMOS-compatible nanofabrication technique of periodic SiO2 nanohole arrays.Nanotechnology. |
| MLA | Wei YY,et al."A straightforward and CMOS-compatible nanofabrication technique of periodic SiO2 nanohole arrays".Nanotechnology (2015). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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