Optimization of a two-step Ni(5% Pt) germanosilicidation process and the redistribution of Pt in Ni(Pt)Si1-xGex Germanosilicide
文献类型：期刊论文
| 作者 | Liu QB(刘庆波); Wang GL(王桂磊) ; Guo YL(郭奕栾); Ke XX(柯星星); Zhao C(赵超); Luo J(罗军)
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| 刊名 | VACUUM
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| 出版日期 | 2015-03-04 |
| 公开日期 | 2016-05-31 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/15093]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Liu QB,Wang GL,Guo YL,et al. Optimization of a two-step Ni(5% Pt) germanosilicidation process and the redistribution of Pt in Ni(Pt)Si1-xGex Germanosilicide[J]. VACUUM,2015. |
| APA | Liu QB,Wang GL,Guo YL,Ke XX,Zhao C,&Luo J.(2015).Optimization of a two-step Ni(5% Pt) germanosilicidation process and the redistribution of Pt in Ni(Pt)Si1-xGex Germanosilicide.VACUUM. |
| MLA | Liu QB,et al."Optimization of a two-step Ni(5% Pt) germanosilicidation process and the redistribution of Pt in Ni(Pt)Si1-xGex Germanosilicide".VACUUM (2015). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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