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半导体器件及其制造方法

文献类型:专利

作者叶甜春; 朱慧珑; 李春龙; 罗军; 钟汇才; 梁擎擎
发表日期2015-12-02
专利号CN201210065168.1
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本申请公开了一种半导体器件及其制造方法。根据一示例,半导体器件可以包括:沿第一方向延伸的鳍,鳍包括相对的第一端部和第二端部以及连接第一端部和第二端部的相对的第一侧面和第二侧面;沿与第一方向交叉的第二方向延伸且与鳍相交的栅电极;贯穿鳍和栅电极的通孔,通孔位于第一端部和第二端部之间,且位于第一侧面与第二侧面之间;源区和漏区,分别形成于鳍的第一端部和第二端部;形成于通孔中的导电接触部,该导电接触部与鳍电隔离,且与栅极电接触。

公开日期2013-09-18
申请日期2012-03-13
语种中文
源URL[http://159.226.55.106/handle/172511/15589]  
专题微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
叶甜春,朱慧珑,李春龙,等. 半导体器件及其制造方法. CN201210065168.1. 2015-12-02.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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