Design technology co-optimization for 14/10nm metal1 double patterning layer
文献类型：会议论文
| 作者 | Su XJ(苏晓菁) ; Chen Y(陈颖); Su YJ(粟雅娟); Duan YL(段英丽)
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| 出版日期 | 2016-03-16 |
| 文献子类 | 会议论文 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/16339]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Su XJ,Chen Y,Su YJ,et al. Design technology co-optimization for 14/10nm metal1 double patterning layer[C]. 见:. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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