Mitigating the influence of wafer topography on the implantation process in optical lithography
文献类型：期刊论文
| 作者 | Su XJ(苏晓菁) ; Dong LS(董立松); Chen WH(陈文辉); Fan TA(范泰安); Wei YY(韦亚一); Ye TC(叶甜春)
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| 刊名 | Optics Letter
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| 出版日期 | 2017-07-24 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/18088]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Su XJ,Dong LS,Chen WH,et al. Mitigating the influence of wafer topography on the implantation process in optical lithography[J]. Optics Letter,2017. |
| APA | Su XJ,Dong LS,Chen WH,Fan TA,Wei YY,&Ye TC.(2017).Mitigating the influence of wafer topography on the implantation process in optical lithography.Optics Letter. |
| MLA | Su XJ,et al."Mitigating the influence of wafer topography on the implantation process in optical lithography".Optics Letter (2017). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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