Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type
文献类型：期刊论文
| 作者 | Zhang LB(张利斌) ; Wei YY(韦亚一); He JF(何建芳); Su XJ(苏晓菁); Dong LS(董立松)
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| 刊名 | J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS
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| 出版日期 | 2017-08-24 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/18089]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhang LB,Wei YY,He JF,et al. Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type[J]. J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS,2017. |
| APA | Zhang LB,Wei YY,He JF,Su XJ,&Dong LS.(2017).Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type.J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS. |
| MLA | Zhang LB,et al."Optimization of the focus monitor mark in immersion lithography according to illumination type".J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS (2017). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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