金属栅电极等效功函数调节方法
文献类型:专利
作者 | 王文武; 杨红; 罗维春; 闫江 |
发表日期 | 2017-11-28 |
专利号 | US9831089 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 美国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | A method for adjusting an effective work function of a metal gate. The method includes forming a metal gate arrangement comprising at least a metal work function layer, and performing plasma treatment on at least one layer in the metal gate arrangement. In this way, it is possible to adjust the effective work function of the metal gate in a relatively flexible way. |
公开日期 | 2015-02-05 |
申请日期 | 2013-08-30 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/18191] |
专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王文武,杨红,罗维春,等. 金属栅电极等效功函数调节方法. US9831089. 2017-11-28. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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