1微米LSI中TiSi2TaSi2/N+多晶硅复合结构RIE腐蚀研究
文献类型:成果
作者 | 赵玉印![]() |
获奖日期 | 1990 |
文献子类 | 中国科学院科技进步奖 |
奖励等级 | 三等奖 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://159.226.55.106/handle/172511/18456] ![]() |
专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵玉印,徐秋霞,周锁京,等. 1微米LSI中TiSi2TaSi2/N+多晶硅复合结构RIE腐蚀研究. . 1990. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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