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1微米LSI中TiSi2TaSi2/N+多晶硅复合结构RIE腐蚀研究

文献类型:成果

作者赵玉印; 徐秋霞; 周锁京; 冯淑敏
获奖日期1990
文献子类中国科学院科技进步奖
奖励等级三等奖
语种中文
源URL[http://159.226.55.106/handle/172511/18456]  
专题微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
赵玉印,徐秋霞,周锁京,等. 1微米LSI中TiSi2TaSi2/N+多晶硅复合结构RIE腐蚀研究. . 1990.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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