隧穿场效应晶体管及其制造方法
文献类型:专利
作者 | 朱正勇; 朱慧珑![]() |
发表日期 | 2018-01-30 |
专利号 | CN201310315051.9 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明提供了一种遂穿场效应晶体管,衬底,衬底上具有鳍,所述鳍具有相对的第一侧面、第二侧面以及相对的第三侧面、第四侧面;分别形成于第一侧面和第二侧面上的第一栅介质层和第二栅介质层;形成于衬底上、分别与第一栅介质层和第二栅介质层相接的第一栅极和第二栅极;形成于衬底上、分别与第三侧面、第四侧面相接的第一掺杂区和第二掺杂区,所述第一掺杂区和第二掺杂区具有不同的掺杂类型。本发明通过鳍沟道区的宽度来控制遂穿结的宽窄,并具有更大的有效遂穿面积,因此可提高导通电流。同时,本发明的晶体管结构,其遂穿发生于半导体层中,即沟道中,由于隧穿层是非掺杂或低掺杂的,因此可降低漏电流,从而改善器件的亚阈值特性。此外,由于采用双栅控制,因此能更好控制双极导通特性,实现器件关断。 |
公开日期 | 2015-02-11 |
申请日期 | 2013-07-25 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/18743] ![]() |
专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱正勇,朱慧珑,许淼. 隧穿场效应晶体管及其制造方法. CN201310315051.9. 2018-01-30. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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