半导体器件及其制造方法
文献类型:专利
作者 | 李春龙![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
发表日期 | 2018-06-01 |
专利号 | CN201410339800.6 |
著作权人 | 中国科学院微电子研究所 |
国家 | 中国 |
文献子类 | 发明专利 |
英文摘要 | 本发明提供了一种半导体器件,包括:第一器件区域和第二器件区域;其中,第一器件区域包括:衬底,所述衬底具有第一半导体材料;第二半导体层,位于衬底之上;第三半导体层,位于第二半导体层之上,为第一器件形成区域;第一隔离结构,位于第三半导体层两侧、衬底之上;第一绝缘层,位于第三半导体层的源漏区域之下、第一隔离结构与第二半导体层端部之间;第二器件区域包括:衬底;衬底之上的第二器件;第二隔离结构,位于第二器件两侧的衬底上。本发明的器件,具有低成本、漏电小、功耗低、速度快、工艺较为简单且集成度高的特点。 |
公开日期 | 2016-02-03 |
申请日期 | 2014-07-16 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/18791] ![]() |
专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李春龙,许静,闫江,等. 半导体器件及其制造方法. CN201410339800.6. 2018-06-01. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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