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半导体器件及其制造方法

文献类型:专利

作者李春龙; 许静; 闫江; 陈邦明; 王红丽; 唐波; 唐兆云; 徐烨锋; 杨萌萌
发表日期2018-06-01
专利号CN201410339800.6
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

本发明提供了一种半导体器件,包括:第一器件区域和第二器件区域;其中,第一器件区域包括:衬底,所述衬底具有第一半导体材料;第二半导体层,位于衬底之上;第三半导体层,位于第二半导体层之上,为第一器件形成区域;第一隔离结构,位于第三半导体层两侧、衬底之上;第一绝缘层,位于第三半导体层的源漏区域之下、第一隔离结构与第二半导体层端部之间;第二器件区域包括:衬底;衬底之上的第二器件;第二隔离结构,位于第二器件两侧的衬底上。本发明的器件,具有低成本、漏电小、功耗低、速度快、工艺较为简单且集成度高的特点。

公开日期2016-02-03
申请日期2014-07-16
语种中文
源URL[http://159.226.55.107/handle/172511/18791]  
专题微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李春龙,许静,闫江,等. 半导体器件及其制造方法. CN201410339800.6. 2018-06-01.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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