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半导体器件及其制造方法

文献类型:专利

作者唐波; 许静; 闫江; 王红丽; 唐兆云; 徐烨锋; 李春龙; 陈邦明; 杨萌萌
发表日期2018-07-13
专利号CN201410339866.5
著作权人中国科学院微电子研究所
国家中国
文献子类发明专利
英文摘要

 本发明提供了一种半导体器件,包括第一器件区域:衬底;第一有源区堆叠,包括衬底上的第一半导体区和其上的第二半导体区,以及空腔,空腔位于第一半导体区的端部、第二半导体区与衬底之间;第一器件,位于第二半导体区之上,且其源漏区位于空腔之上;第二器件区域:衬底;第二有源区堆叠,包括衬底上的第三半导体区和其上的第四半导体区,以及绝缘层,绝缘层位于第三半导体区的端部、第四半导体区与衬底之间;第二器件,位于第四半导体区之上,且其源漏区位于绝缘层之上。该半导体器件具有低成本、漏电小、功耗低、速度快、工艺较为简单且集成度高的特点。

公开日期2016-02-03
申请日期2014-07-16
语种中文
源URL[http://159.226.55.107/handle/172511/18808]  
专题微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
唐波,许静,闫江,等. 半导体器件及其制造方法. CN201410339866.5. 2018-07-13.

入库方式: OAI收割

来源:微电子研究所

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