Analysis of Current Research Status of Plasma Etch Process Model
文献类型：期刊论文
| 作者 | Wei YY(韦亚一) ; Chen R(陈睿); Li XT(李晓婷); Xuanmin Zhu; Jing Zhang; Wang YR(王艳蓉); Shuhua Wei; Yan J(闫江); Qu L(屈磊)
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| 刊名 | Journal of Microelectronic Manufacturing
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| 出版日期 | 2018-09-30 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 语种 | 英语 |
| 源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/19069]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Wei YY,Chen R,Li XT,et al. Analysis of Current Research Status of Plasma Etch Process Model[J]. Journal of Microelectronic Manufacturing,2018. |
| APA | Wei YY.,Chen R.,Li XT.,Xuanmin Zhu.,Jing Zhang.,...&Qu L.(2018).Analysis of Current Research Status of Plasma Etch Process Model.Journal of Microelectronic Manufacturing. |
| MLA | Wei YY,et al."Analysis of Current Research Status of Plasma Etch Process Model".Journal of Microelectronic Manufacturing (2018). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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