Fabrication Technique for pMOSFET poly-SiTaNTiNHfSiAlON
文献类型：期刊论文
| 作者 | jing Zhang; Wang WW(王文武) ; Xu QX(徐秋霞); Li YL(李永亮)
|
| 刊名 | ECS Journal of Solid State Science and Technology
 |
| 出版日期 | 2018-08-02 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/19074]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | jing Zhang,Wang WW,Xu QX,et al. Fabrication Technique for pMOSFET poly-SiTaNTiNHfSiAlON[J]. ECS Journal of Solid State Science and Technology,2018. |
| APA | jing Zhang,Wang WW,Xu QX,&Li YL.(2018).Fabrication Technique for pMOSFET poly-SiTaNTiNHfSiAlON.ECS Journal of Solid State Science and Technology. |
| MLA | jing Zhang,et al."Fabrication Technique for pMOSFET poly-SiTaNTiNHfSiAlON".ECS Journal of Solid State Science and Technology (2018). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。