面向5nmCMOS技术代堆叠纳米线释放工艺研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王桂磊; 李俊杰; 张兆浩; 殷华湘; 余金中; 李志华; 闫江; 吴次南; 张青竹; 曹志军 |
| 刊名 | 真空科学与技术学报
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| 出版日期 | 2018-02-15 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/19198]  |
| 专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
| 作者单位 | 1.中国科学院大学 2.北京有色金属研究总院 3.北方工业大学 4.中国科学院微电子研究所 5.贵州大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王桂磊,李俊杰,张兆浩,等. 面向5nmCMOS技术代堆叠纳米线释放工艺研究[J]. 真空科学与技术学报,2018. |
| APA | 王桂磊.,李俊杰.,张兆浩.,殷华湘.,余金中.,...&曹志军.(2018).面向5nmCMOS技术代堆叠纳米线释放工艺研究.真空科学与技术学报. |
| MLA | 王桂磊,et al."面向5nmCMOS技术代堆叠纳米线释放工艺研究".真空科学与技术学报 (2018). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
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