先进Ti硅化物源漏接触技术研究
文献类型:学位论文
作者 | 毛淑娟 |
答辩日期 | 2019-05-15 |
文献子类 | 博士 |
授予单位 | 中国科学院大学 |
导师 | 赵超 ; 罗军 |
源URL | [http://ir.ime.ac.cn/handle/172511/19355] ![]() |
专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 毛淑娟. 先进Ti硅化物源漏接触技术研究[D]. 中国科学院大学. 2019. |
入库方式: OAI收割
来源:微电子研究所
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